- 교과목개요: 반도체집적공정에 관련된 공정, 소자 전분야에 걸친 기본 지식을 배우기 위해, 모듈 공정 별 기술개발과정에 대한 이해가 필요함. 배운 집적공정 지식을 바탕으로 Technology Computer Aided Design(TCAD)를 이용하여 가상으로 소자 집적공정을 체험함. 동시에 교내 CSTC, NINT 실험 시설을 활용하여 실제 공정 장비의 사용법을 익히며, MOS capacitor를 제작 및 테스트하는 실습을 진행. 이를 통해, 반도체 공정, 소자 제작 및 특성 이해에 필요한 가장 기초적인 지식을 함양함.
- 교육 목표: 주요 반도체 공정의 기본 원리를 이해하고, 시뮬레이션으로 가상 소자를 만들어 성능을 예측하며, MOS capacitor 소자를 직접 공정 진행하여 만들어진 샘플의 특성 분석.

SEMI100 학과입문(반도체공학)
SEMI111 반도체산업경영세미나

Attendance 30%, Mid Term 30%, Term Project Presentation 40%

Sentaurus TCAD manual
Chenming Calvin Hu “Modern Semiconductor Devices for Integrated Circuits” Pearson, 2019

(Introduction)
- wk 1: (집적공정론) Course Outline, Introduction to CMOS technology, and Overview of CMOS Process Integration
- wk 2: (집적공정론) 반도체공정기초 (Vacuum, Gas kinetics, and Glow Discharge)
- wk 3: (TCAD) Overview of Technology Computer Aided Design (TCAD), How to Use Workbench
- wk 4: (공정실습) Practice Outline and Fab Entrance and Safety Education
- wk 5: (집적공정론) Cleaning and Ion Implantation
- wk 6: (집적공정론) Diffusion, Oxidation and Deposition
- wk 7: (TCAD) MOS Capacitor Process Simulation
- wk 8: Mid-term exam
- wk 9: (공정실습) Wet Station/Sputter 설비 교육 및 Cleaning/Deposition 공정 실습
- wk 10: (TCAD) MOS Capacitor Device Simulation
- wk 11: (집적공정론) Photolithography
- wk 12,13: (집적공정론) Etch
- wk 14: (공정실습) Photo resist processing/wet etch 교육 및 Photo/Etch 공정 실습
- wk 15: (공정실습) How to Use Probe station, Parameter Analyzer, and MOS C-V Measurement
- wk 16: Term project presentation (공정 설명, C-V 정량 분석, 불량분석)

Lecture
[A,B,C,D] Mon, Wed am 9:00~10:40
TCAD (3 weeks)
[A,C] Mon, Wed am 9:00~10:40
[B,D] Mon, Wed am 11:00~12:40
Practice (4 weeks)
[A] Mon am 9:00~10:40 – Wed am 9:00~10:40
[B] Mon am 9:00~10:40 – Wed am 11:00~12:40
[C] Mon am 9:00~10:40 – Wed am 9:00~10:40
[D] Mon am 11:00~12:40 – Wed am 9:00~10:40