3. 강의목표
- 교과목 개요: 본 강좌는 대표적 반도체 소자들인 DRAM/NAND/Logic 소자 제조 공정을 이해하는 데 있다. 이를 위해 이들 소자들의 핵심 동작 기술과 기본 process flow를 먼저 알아보고, 이에 기초가 되는 Gas Kinetics, Vacuum 및 Glow Discharge 핵심 이론의 이해를 바탕으로, 대표적 공정인 Photo, Etch, Metal, Cleaning, CVD/Diffusion 분야에 대해서 학습한다.
- 교육 목표: IDM (Integrated Device Manufacture, 종합 반도체 제조사) 혹은 Foundry (반도체 위탁 생산업체) 에서 반도체 제작에 사용되는 대표적 공정들에 대한 심화 학습을 통하여 점차 어려워지는 차세대 반도체 소자 집적 공정에서의 이슈를 이해하고 나아갈 방향을 고민해 본다.
5. 성적평가
Attendance 10%, HW 20%, Mid-term Exam 30%, Final Exam 40%
6. 강의교재
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저자명 |
출판사 |
출판년도 |
ISBN |
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Lecture Note
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8. 강의진도계획
Week 1: DRAM 소자 이해 (3hr)
Week 2: NAND 소자 이해 (3hr)
Week 3: Logic 소자 이해 (3hr)
Week 4: Gas Kinetics 이해 (1.5hr)
Week 5: Vacuum 이해 (1.5hr)
Week 6: Glow Discharge 이해 (3hr)
Week 7: Etch 공정 이해 (3hr)
Week 8: Mid Exam
Week 9: 휴강 예정 (과제 출장)
Week 10: Photo 공정 이해 (3hr)
Week 11: Metal 공정 이해 - 1 (3hr)
Week 12: Metal 공정 이해 - 2 (3hr)
Week 13: Cleaning 공정 이해 - 1 (3hr)
Week 14: Cleaning 공정 이해 - 2 (3hr)
Week 15: CVD/Diffusion 공정 이해 (3hr)
Week 16: Final Exam
11. 장애학생에 대한 학습지원 사항
- 수강 관련: 문자 통역(청각), 교과목 보조(발달), 노트필기(전 유형) 등
- 시험 관련: 시험시간 연장(필요시 전 유형), 시험지 확대 복사(시각) 등
- 기타 추가 요청사항 발생 시 장애학생지원센터(279-2434)로 요청