- 교과목개요: 본 강좌는 반도체집적공정에 관련된 공정, 소자 전분야에 걸친 기본 지식을 배우기 위해, 모듈 공정별 기술개발과정에 대한 이해가 필요함. 배운 집적공정 지식을 바탕으로 Technology Computer Aided Design (TCAD) 를 이용하여 가상으로 소자 집적공정을 체험함. 동시에 교내 CSTC, NINT 실험 시설을 활용하여 실제 공정 장비의 사용법을 익히며, PN diode 및 MOS capacitor를 제작 및 테스트하는 실습을 진행. 이를 통해, 반도체 공정, 소자 제작 및 특성 이해에 필요한 가장 기초적인 지식을 함양함.


- 교육 목표: 주요 반도체 공정의 기본 원리를 이해하고, 시뮬레이션으로 가상 소자를 만들어 성능을 예측하며, PN diode 및 MOS capacitor 소자를 직접 공정 진행하여 만들어진 샘플의 특성 분석.

SEMI100 학과입문(반도체공학)
SEMI111 반도체산업경영세미나

Attendance 30%, HW 10%, Examination 40%, Term Project Presentation 20%

Chenming Calvin Hu “Modern Semiconductor Devices for Integrated Circuits” Pearson, 2010
Sentaurus TCAD manual

- wk 1: (집적공정론) Course/Practice Outline and Safety Education (공정실습) Fab Entrance
- wk 2: (집적공정론) Introduction to CMOS technology and Fundamentals of Semiconductor Device and Materials (공정실습) PN Junction Fabrication-1
- wk 3: (TCAD) Overview of Technology Computer Aided Design (TCAD), How to Use Workbench
- wk 4: (집적공정론) Fundamentals of PN Junction (공정실습) PN Junction Fabrication-2
- wk 5: (집적공정론) Fundamentals of MOS Capacitor (공정실습) PN Junction Fabrication-3
- wk 6: (집적공정론) Gas Kinetics (TCAD) PN Junction Simulation
- wk 7: (집적공정론) Glow Discharge (측정실습) How to Use Probe station/Parameter Analyzer and PN Junction I-V Measurement
- wk 8: Mid-term exam
- wk 9: (집적공정론) Cleaning (공정실습) MOS Capacitor Fabrication-1
- wk 10: (집적공정론) Photolithography (공정실습) MOS Capacitor Fabrication-2
- wk 11: (집적공정론) Etch (공정실습) MOS Capacitor Fabrication-3
- wk 12: (TCAD) MOS Capacitor Simulation
- wk 13: (집적공정론) Oxidation (측정실습) MOS Capacitor C-V Measurement
- wk 14: (집적공정론) Ion Implantation and Diffusion (TCAD) Correlation
- wk 15: (집적공정론) Deposition (측정실습) Analysis on MOS Capacitor C-V curve
- wk 16: Final Exam and Term Project Presentation