최근 반도체 분야에서는 원자 수준까지 단위 소자 크기가 작아지는 미세 공정의 중요성이 점점 더 높아지면서 효율적으로 잘 만들어 내는 공정 방법에 대한 중요성이 매우 높아지고 있다. 본 과목에서는 이론 교육과 함께 최신 반도체 공정 시설에서의 실습을 통하여 CMOS 소자 제작에 대한 지식과 노하우를 학습한다.

- 필수 선수과목: 반도체 소자 관련 학부 필수 과목

- 나노팹에서의 실습 과목 특성상 수강생을 9명으로 제한합니다

- PSEP 참여 유무, 고학년 순으로 수강 우선순위를 부여합니다

프로젝트: 50%

기말고사: 50%

수업 시간에 제공됩니다

반도체 물질의 기본 원리부터 시작하여, CMOS 소자의 동작에 대한 복습을 빠르게 진행한다. 이후 필수적인 반도체 공정 과정에 대한 이론적인 학습 후에 교내 반도체 공동 시설에서의 실험을 진행한다. MOSFET 소자의 마스크 설계, 공정, 측정 과정에 대한 교육 후 학생들이 직접 실험 및 분석하는 기회를 제공한다.

-반도체 공정 이론: thin-film formation, photolithography, etching, ion implantation, annealing
-반도체 공정 실습: 교내 나노융합기술원 (NINT) 내 클린룸 시설에서 주요 반도체 공정 장비의 이용 교육
-반도체 공정 시뮬레이션: Sentaurus 프로그램을 이용한 MOSFET 공정 시뮬레이션
-MOSFET 공정: Long channel (L≈1~2 µm) MOSFET 공정을 위한 mask 설계 및 공정
-MOSFET 측정/분석: I-V, C-V, bias stress 측정 및 분석

- 2022년 1학기 수업은 동영상 업로드 방식으로 진행됩니다.

- 첫번째 동영상은 2/28일 주에 업로드 예정입니다.