2025년도 2학기 반도체 공정 심화 (SEMI561-01) 강의계획서

1. 수업정보

학수번호 SEMI561 분반 01 학점 3.00
이수구분 전공선택 강좌유형 강의실 강좌 선수과목
포스테키안 핵심역량
강의시간 화, 목 / 09:30 ~ 10:45 / C5 [422-1호] 성적취득 구분 G

2. 강의교수 정보

강대환 이름 강대환 학과(전공) 반도체공학과
이메일 주소 daehwankang@postech.ac.kr Homepage
연구실 전화 054-279-8075
Office Hours

3. 강의목표

- 교과목 개요: 본 강좌는 대표적 반도체 소자들인 DRAM/NAND/Logic/전력반도체 소자 제조 공정을 이해하는 데 있다. 이를 위해 먼저 이들 소자들의 핵심 동작 원리와 process integration을 먼저 알아보고, 이를 구현하기 필요한 Vacuum 장치 및 Glow Discharge 핵심 이론을 리뷰하고, 최근 scaled device 제작에 필요한 심화 공정 기술들에 대해서 학습한다.
- 교육 목표: IDM (Integrated Device Manufacture, 종합 반도체 제조사) 혹은 Foundry (반도체 위탁 생산업체) 에서 반도체 칩 제작에 사용되는 대표적 공정들에 대한 심화 학습을 통하여 점차 어려워지는 차세대 반도체 소자 집적 공정에서의 이슈를 이해하고 나아갈 방향을 고민해 본다.

4. 강의선수/수강필수사항

5. 성적평가

Attendance 30%, Mid-term Exam 30%, Final Exam 40%

6. 강의교재

도서명 저자명 출판사 출판년도 ISBN
Lecture Note 0000

7. 참고문헌 및 자료

주차별 강의 자료 마지막 페이지 목록 참조

8. 강의진도계획

Week 1 (3hr) 강의 개요 및 DRAM 소자 및 공정(1)
Week 2 (3hr) DRAM 소자 및 공정(2)
Week 3 (3hr) DRAM 소자 및 공정(3)
Week 4 (3hr) NAND 소자 및 공정(1)
Week 5 (3hr) NAND 소자 및 공정(2)
Week 6 (3hr) LOGIC 소자 및 공정(1)
Week 7 (3hr) LOGIC 소자 및 공정(2)
Week 8 Mid Exam
Week 9 (3hr) POWER 소자 및 공정(1)
Week 10 (3hr) POWER 소자 및 공정(2)
Week 11 (3hr) Vacuum and Glow Discharge
Week 12 (3hr) Advanced Photo/Etch 공정
Week 13 (3hr) Metal 공정(1)
Week 14 (3hr) Advanced Cleaning 및 CMP 공정
Week 15 (3hr) Metal 공정(2)
Week 16 Final Exam

9. 수업운영

10. 학습법 소개 및 기타사항

11. 장애학생에 대한 학습지원 사항

- 수강 관련: 문자 통역(청각), 교과목 보조(발달), 노트필기(전 유형) 등

- 시험 관련: 시험시간 연장(필요시 전 유형), 시험지 확대 복사(시각) 등

- 기타 추가 요청사항 발생 시 장애학생지원센터(279-2434)로 요청