- 교과목개요: 본 강좌는 반도체집적공정에 관련된 공정, 소자 전분야에 걸친 기본 지식을 배우기 위해, 모듈 공정별 기술개발과정에 대한 이해가 필요함. 배운 집적공정 지식을 바탕으로 Technology Computer Aided Design (TCAD) 를 이용하여 가상으로 소자 집적공정을 체험함. 동시에 교내 CSTC, NINT 실험 시설을 활용하여 실제 공정 장비의 사용법을 익히며, PN diode 및 MOS capacitor를 제작 및 테스트하는 실습을 진행. 이를 통해, 반도체 공정, 소자 제작 및 특성 이해에 필요한 가장 기초적인 지식을 함양함.

- 교육 목표: 주요 반도체 공정의 기본 원리를 이해하고, 시뮬레이션으로 가상 소자를 만들어 성능을 예측하며, PN diode 및 MOS capacitor 소자를 직접 공정 진행하여 만들어진 샘플의 특성 분석.

SEMI100 학과입문(반도체공학)
SEMI111 반도체산업경영세미나

Chenming Calvin Hu “Modern Semiconductor Devices for Integrated Circuits” Pearson, 2010
Sentaurus TCAD manual

- wk 1: (집적공정론) Lecture Outline (공정실습) Safety Education and Fab Entrance
- wk 2: (집적공정론) Cleaning (공정실습) Cleaning 공정
- wk 3: (집적공정론) Photolithography (1) (공정실습) Photo 공정 (1)
- wk 4: (집적공정론) Photolithography (2) (공정실습) Photo 공정 (2)
- wk 5: (집적공정론) Deposition (1) (공정실습) Liftoff 공정
- wk 6: (집적공정론) Deposition (2) (공정실습) ALD 공정
- wk 7: (집적공정론) Deposition (3) (공정실습) Sputtering 공정
- wk 8: Mid-term exam
- wk 9: (집적공정론) Ion Implantation (공정실습) RTA 공정
- wk 10: (집적공정론) Etch (공정실습) Etch 공정
- wk 11: (집적공정론) Diffusion and Oxidation (측정실습) How to Use Probe station/Parameter Analyzer
- wk 12: (집적공정론) Fundamentals of Semiconductor Device and Materials (측정실습) PN I-V and MOS C-V Measurement (조별)
- wk 13: (집적공정론) PN/Metal-Semiconductor Junctions (TCAD) How to Use Workbench
- wk 14: (집적공정론) MOS Capacitor (TCAD) PN I-V and MOS C-V Simulation (조별)
- wk 15: (집적공정론) Introduction to CMOS Technology (Term Project) PN Junction / MOS Capacitor 실습 요약 발표 (조별)
- wk 16: Final Exam