반도체 공정 심화 (2026-092, 50292756

1. 수업정보

학수번호	GSST525	분반	01	학점	3.00
이수구분	전공선택	강좌유형	강의실 강좌	선수과목
포스테키안 핵심역량	대인관계역량 글로벌시민역량 지식탐구역량 디지털리터러시역량 자기관리역량 창의융합역량
강의시간	화, 목 / 09:30 ~ 10:45 / C5 [422-1호]			성적취득 구분	G

2. 강의교수 정보

이름	강대환	학과(전공)	반도체공학과
이메일 주소	daehwankang@postech.ac.kr	Homepage
연구실		전화	054-279-8075
Office Hours

3. 강의목표

- 교과목 개요
본 강좌는 대표적 반도체 소자들인 DRAM/NAND/Logic/전력반도체 소자 제조 공정을 이해하는 데 있다. 이를 위해 먼저 이들 소자들의 핵심 동작 원리와 process integration을 먼저 알아보고, 이를 구현하기 필요한 Vacuum 장치 및 Glow Discharge 핵심 이론을 리뷰하고, 최근 scaled device 제작에 필요한 심화 공정 기술들에 대해서 학습한다.

- 교육 목표
IDM (Integrated Device Manufacture, 종합 반도체 제조사) 혹은 Foundry (반도체 위탁 생산업체) 에서 반도체 칩 제작에 사용되는 대표적 공정들에 대한 심화 학습을 통하여 점차 어려워지는 차세대 반도체 소자 집적 공정에서의 이슈를 이해하고 나아갈 방향을 고민해 본다.

4. 강의선수/수강필수사항

5. 성적평가

중간고사	기말고사	출석	과제	프로젝트	발표/토론	실험/실습	퀴즈	기타	계
30	30	40							100

비고

6. 강의교재

도서명	저자명	출판사	출판년도	ISBN
Lecture Notes			0000

7. 참고문헌 및 자료

주차별 강의 자료 마지막 페이지 목록 참조

8. 강의진도계획

Week 1 (3hr) 강의 개요 및 DRAM 소자 및 공정(1)
Week 2 (3hr) DRAM 소자 및 공정(2)
Week 3 (3hr) DRAM 소자 및 공정(3)
Week 4 (3hr) NAND 소자 및 공정(1)
Week 5 (3hr) NAND 소자 및 공정(2)
Week 6 (3hr) LOGIC 소자 및 공정(1)
Week 7 (3hr) LOGIC 소자 및 공정(2)
Week 8 Mid Exam
Week 9 (3hr) LOGIC 소자 및 공정(3)
Week 10 (3hr) POWER 소자 및 공정(1)
Week 11 (3hr) POWER 소자 및 공정(2)
Week 12 (3hr) Vacuum
Week 13 (3hr) Glow Discharge and Advanced Etch 공정
Week 14 (3hr) Metal 공정(1)
Week 15 (3hr) Metal 공정(2)
Week 16 Final Exam

9. 수업운영

10. 학습법 소개 및 기타사항

11. 장애학생에 대한 학습지원 사항

- 수강 관련: 문자 통역(청각), 교과목 보조(발달), 노트필기(전 유형) 등

- 시험 관련: 시험시간 연장(필요시 전 유형), 시험지 확대 복사(시각) 등

- 기타 추가 요청사항 발생 시 장애학생지원센터(279-2434)로 요청

2026년도 2학기 반도체 공정 심화 (GSST525-01) 강의계획서